市民关注的常州半导体厂(常半微电子)及周边地块项目建设工程设计方案,上月25日至本月6日完成公示。 本项目总规划用地约61707平方米,总建设规模约407000平方米。地上建筑面积约297000平方米,其中:住宅及配套约109000平方米、商业及其配套(含酒店)约100700平方米、商务办公约85000平方米。地下建筑面积约107000平方米,其中地下商业约14900平方米。 据了解,该项目用地为商住混合用地,共由7个地块组成。 地块一为商住用地,商业MALL沿劳动西路和北侧规划道路呈L形展开,上部设置两栋办公塔楼。另两栋高层住宅塔楼,布置在地块东南侧,以减少城市道路噪音对居住环境的影响。 地块二为商业用地,沿西河沿路临河带状展开,两栋塔楼分别布置在地块南北两侧,北部结合保留的水塔设置,建设运河文化广场和下沉广场,与地块一的商业入口相呼应。 地块三和地块四为商住混合用地,底部设置3层底商,上部各为一栋住宅塔楼。 地块五、六、七均为绿地与广场用地,其中,北侧地块五结合绿化布置部分地面停车,地块七按要求规划迁址后的文物建筑属于一般不可移动文物,文物建筑主要是江南民居。 据了解,该项目由常州市橙龙置业有限公司开发建设。建筑形态设计手法取意于京杭大运河水波潋滟的意像,将自然弯曲的河道和波光粼粼的水面融入商业设计,以现代手法表现出项目特定的城市文脉,以及现代商业流动时尚的感受。这条抽象化的京杭大运河“纽带”贯穿于建筑,同时结合夜晚光电技术的运用,打造出项目动感时尚的地标效果。塔楼设计运用现代轻盈的设计手法,结合玻璃幕墙、金属线条等,体现现代活力与品位。 (文/凃贤平) (责任编辑:DY) |